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2021年9月22日下午,我院举办第三期“光创荟”大讲堂,邀请了中科院上海光机所研究员、博士生导师曾爱军博士主讲,题目是“从深紫外投影光刻机照明系统出发浅谈光学系统设计”,对面向1X nm及其以下工艺节点芯片制造的浸没光刻机的照明系统作了概述,重点介绍光束处理技术、光瞳整形技术、光场匀化技术、照明中继技术和偏振照明技术,以及相关技术原理在其他光学系统中的应用等。对“光刻机概念-光刻机发展历程-光刻机制造商-光刻机核心分系统-光刻机光源掩模偏振优化”等相关知识作了科普介绍。
曾博士还通过“理论篇”、“实践篇”等过程,分享了自己从“初入职场”到成为“技术负责人”的历程,分享了他对科研事业的执着追求与无限热爱,大家都深受启发,本次大讲堂吸引了我院及产业化公司近40名科研人员及集萃研究生参加。
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