DMD数字掩模光刻机 LTG-DMD
LTG-DMD数字掩模光刻机无需制造掩模板,采用DMD数字芯片掩模可在样品表面曝光通过计算机编辑的任意图案。结合精密的电控位移台,可以实现自动调平、自动对焦、多图拼接等功能。
主要特点 |
应用领域 |
● 无需样本制备 |
● 中小规模集成电路 |
● 非接触式测量 |
● 光电子器件 |
● 实时检测、无需等待 |
● 液晶微纳光学 |
● 多元素分析 |
● 偏振防伪 |
● 定制开发 |
● 半导体元器件 |
技术规格书
曝光光源 |
405nm or 365nm LED |
曝光不均匀性 |
<5% |
最大样品尺寸 |
20x20mm |
单幅曝光尺寸 |
0.095英寸(10X镜头) |
最小分辨率 |
2um(10X镜头) |
镜头倍率 |
2X、5X、10X |
自动对焦精度 |
1um |
自动调平精度 |
10' |
可选功能 |
偏振态控制 |
偏振对比度 |
>10000:1 |
线偏方向角精度 |
0.2° |
外观尺寸 |
800x550x680mm |
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联系地址
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